在微纳制造课程中，我作为小组负责人，主导微纳光栅结构制备的工艺流程设计。我负责光刻与刻蚀步骤的参数梳理，组织3人小组分工，使用版图软件绘制掩模，并用台阶仪测量刻蚀深度。针对线宽偏差问题，我对比两组曝光剂量并开展重复实验，最终使样品线宽均匀性较初版提升约15%。项目完成后，我撰写了课程报告并参与答辩，同时整理工艺参数对照表供组内复用，锻炼了微纳加工与团队协作能力。

我独立完成了一项薄膜沉积参数探究项目，旨在分析不同沉积时间对薄膜厚度的影响。通过查阅课程资料，我设计了实验方案，使用旋涂与热台完成样品制备，并以台阶仪测量厚度、记录数据。基于同批基底上的9组样品，我利用表格工具进行趋势拟合，发现厚度随时间近似线性增长，拟合偏差在可接受范围内。我整理了探究小结用于课程交流，并补充了异常点排查记录，提升了实验设计与数据分析能力。